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铬原子层沉积吸热采暖膜

铬原子层沉积吸热采暖膜

自主研发铬原子层沉积吸热采暖膜行业领先

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技术性能
基料(型号可根据客户订做) Al
膜层厚度 500纳米
太阳光谱吸收比(AM1.5) 96%±2%
红外发射率(80℃) ε=6% ±2%
涂层附着力(GB1720-79) 1级
耐热性能(GB/T1735-2009) -40℃-160℃吸收比保持在原值的90%以上
耐中性盐雾性能(GB/1771-2007) 实测200小时无裂纹、起泡、剥落及生锈
人工气候老化(GB/T1865-2009) 实测1000小时吸收比保持在原值的95%以上
人工辐射曝露过滤的氙弧辐射(GB/T1865-2009) 外观良好、无起泡、无失光、无变色且吸收实测1000小时并保持在原值的95%以上
紫外老化(3000H) 实测3000小时无变黄、无脱层、无起泡。吸热及发射在原值的90%以上
规格尺寸(勾选) 长度:2450/2370/2360/2350/2345/1970/1960/1950/1945/1940
宽度:745/770/760/750/745/970/960/950/945/940
厚度:0.4/0.3

铬原子层沉积吸热采暖膜工艺原理

Ddos™铬原子层沉积吸热采暖膜简称原子膜是采用氧化烧结工艺Ddos™工艺完成制备,将连续纳米过渡金属物预成型掺杂于熔融金属表面,因毛细管作用,熔融金属向预成型体中渗透。由于熔融金属中含有少量添加剂,并处于空气或氧化气氛中,浸渍到纳米过渡金属物预成型体中的熔融金属与气相氧化剂反应形成氧化物基体,产生的氧化物沉积在纳米过渡金属周围,形成含有少量残余金属的、致密的连续纳米过度金属增强陶瓷体金属基复合材料Cermet。 在Ddos™工艺过程中加入铬原子层沉积技术(ALD),且使铬原子膜以单原子膜的形式一层一层的沉积在基材表面,精确控制膜层厚度,同时作为吸收剂和镜面剂,保证能够获得极高的吸收率和低的发射率,Ddos™铬原子层沉积吸热采暖膜可以达到97%的吸收率和6%的发射率。外部持续加热保证熔融金属物与基材的可渗透性,使整个多元氧化物表面的晶格发生变异,确保材料成为一个整体,达到整体寿命一致的要求。因此Ddos™铬原子层沉积吸热采暖膜是光学涂层和基材为一个整体的材料,从根本上解决了膜层变色、脱落、衰减、不耐酸碱、耐盐雾性能差、等缺陷。Ddos™铬原子层沉积吸热采暖膜是太阳能吸热体产品中具有革命性的创新产品。

鲁公网安备37149202000562号